日本ULVAC愛發(fā)科IH-860PSIC半導體SiC 高溫離子注入機
日本ULVAC愛發(fā)科半導體SiC 高溫離子注入機

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詳細介紹

日本ULVAC愛發(fā)科半導體SiC 高溫離子注入機

SiC 高溫離子注入機IH-860PSIC

這是配備高溫ESC的用于SiC量產(chǎn)的高能離子注入機。

可自動連續(xù)高溫處理注入
可注入高達 350keV 的單價離子和 700keV 的雙電荷離子
（可選支持高達 430keV 的單價離子和 860keV 的雙電荷離子）
雙端站實現(xiàn)高吞吐量
（A系統(tǒng)4"高溫電調(diào)/B系統(tǒng)3"高溫電調(diào)、A系統(tǒng)6"高溫電調(diào)/B系統(tǒng)6"常溫電調(diào)等，規(guī)格可根據(jù)客戶需求訂做愿望）
可進行鏈條注射，減輕操作員負擔
緊湊型設計
從原型到批量生產(chǎn)，我們提供廣泛的支持。

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