日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備

日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備

用于光電器件和MEMS的
干法刻蝕設備NLD-5700

用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蝕系統(tǒng)是配備磁中性線等離子體（NLD）源的用于大規(guī)模生產的干法刻蝕系統(tǒng)。 （采用磁中性線等離子體（NLD）的低壓、低電子溫度、高密度等離子體的干式蝕刻設備，由ULVAC原創(chuàng)開發(fā)。）

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